光學(xué)微腔在理論和實(shí)際應(yīng)用中都有很大的研究意義。比如光子與激子的弱、強(qiáng)耦合作用，耦合動(dòng)力學(xué)或相干態(tài)極子激射。光學(xué)微腔能在空間層面限制光而形成駐波，在微腔激光器中具有重要作用，例如F-B諧振腔激光器、微盤激光器及光子晶體激光器。氮化物光學(xué)微腔也有諸多報(bào)道，為了形成良好的光學(xué)限制，對(duì)于在藍(lán)寶石襯底上外延的GaN，由于藍(lán)寶石較難被化學(xué)溶液蝕刻，人們一般通過ICP干刻的方法得到設(shè)計(jì)的微腔結(jié)構(gòu)（如微盤、微環(huán)）后，再通過特別設(shè)計(jì)的光電化學(xué)蝕刻方法（PEC）蝕刻底切特殊設(shè)計(jì)生長的GaN外延結(jié)構(gòu)（如InGaN/GaN超晶格層等）。堪薩斯大學(xué)的H. X. Jiang團(tuán)隊(duì)直接在圖案化的藍(lán)寶石襯底上生長得到大尺寸（~8 μm）的金字塔光學(xué)微腔，而香港大學(xué)的Choi團(tuán)隊(duì)則報(bào)道了底部為Ag和ITO反射鏡的干法ICP刻蝕光學(xué)微盤腔光泵激射，其Q值分別為1673和770。
近日，中南大學(xué)、中科院半導(dǎo)體研究所、南方科技大學(xué)等單位的研究人員報(bào)道了一種新型的基于全濕法化學(xué)腐蝕獲得高品質(zhì)因子的垂直結(jié)構(gòu)金字塔GaN光學(xué)微腔。他們?cè)谧贤獬毓獗孟掠^察到多模式激射，如在367.2 nm波長的模式激射，具有低閾值（0.4–0.5 MW/cm2）、窄線寬（0.054 nm）和高品質(zhì)因子（超過6000）。這種高性能的光學(xué)GaN微腔主要受益于其獨(dú)特的微米金字塔制備方式。相比已報(bào)道GaN微腔，這種新型的金字塔微腔具有以下特點(diǎn)：1. 傳統(tǒng)GaN微腔制造一般通過干法蝕刻得到，有損材料的晶體質(zhì)量。此金字塔微腔完全為濕法化學(xué)蝕刻得到，能在一定程度上“過濾”材料位錯(cuò)和缺陷，從而提高其晶體質(zhì)量；2. 由濕法蝕刻得到的金字塔微腔具有光滑的晶面，與底部的Ag基反射鏡可共同形成良好的光學(xué)限制，無需傳統(tǒng)GaN微腔制備的復(fù)雜底切蝕刻工藝。
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